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CVD炉系列

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大型CVD气相沉积炉

应用范围

用途:

大型CVD气相沉积炉

化学气相沉积( Chemical Vapor Deposition,CVD)是在一定温度条件下,混合气体之间或混合气体与基材表面相互作用,并在基材表面上形成金属或化合物的薄膜镀层,使材料表面改性,以满足耐磨、抗氧化、抗腐蚀以及特定的电学、光学和摩擦学等特殊性能要求的一种技术。
 
CVD的反应机理是一个复杂的过程,通常取决于反应物和反应条件。一般而言,CVD反应的过程可以分为以下几个步骤:
.反应物进入反应室并被激活:反应物以气态形式进入反应室,并在反应室内被激活。激活方式通常包括加热,等离子体,或者两者的结合。
.反应物在基片表面发生反应:激活的反应物在基片表面发生反应,形成薄膜。反应可以是氧化、还原、沉积等化学反应。
.薄膜生长:反应物不断进入反应室,与基片表面反应,从而形成薄膜。薄膜的生长速率受到反应条件和反应物浓度的影响。
采用气态物质源时, 需要用流量计来控制反应气体(H2、N2、CH4 和Ar 等)的流量, 晨昕CVD炉可以根据客户工艺要求进行设计,温度700-1500℃、高真空,多气路单独控制或混气、大尺寸等都可以定制,可用于单层石墨烯生长,半导体材料涂层等其他领域高性能涂层的生长。

性能特点

大型CVD气相沉积炉

技术特性